19th International Conference on Ion Implantation Technology - IIIT, Valladolid (España). 25-29 junio 2012
Fecha de publicación: 2012-06-25.
Cita:
A. Moreno Barrado, M. Castro, Cumulative stress by ion implantation of Xe+. Si: A Molecular Dynamics approach, 19th International Conference on Ion Implantation Technology - IIIT, Valladolid (España). 25-29 junio 2012.
